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碳化硅硬度仅次于金刚石、立方氮化硼和碳化硼的高硬度陶瓷材料。由于其具有较高的耐磨性和相对较低的成本，碳化硅在诸多应用中作为散粒或固着磨料材料使用。
在CMP（化学机械抛光）行业中，随着半导体工业发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级，传统的平坦化方案只能满足局部平坦化，只有通过CMP技术进行整体抛光。而海特HT-C系列产品是针对化学机械抛光行业量身打造，成为品质优良的磨料。